据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。

俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出，到2026年将获得130nm的国产光刻机，下一步将是开发90nm光刻机，并继续向下迈进。

此前，俄罗斯曾表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片制造，到2030年实现14nm国产芯片制造。