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据日经亚洲评论报道，富士胶片和住友化学最早将于2021年开始供应用于先进工艺芯片制造的光刻胶。

据悉，这两家日本公司正在研制EUV（极紫外光）光刻胶。富士胶片将投资45亿日元(4260万美元)用于日本静冈县的生产设备，该厂最早将于明年开始量产。住友化学计划在2022财年之前，为大阪的一家工厂投入从研发到生产的全部光刻胶产能。

新型光刻胶将有助于芯片制造的改进，并使智能手机等设备趋于轻薄及节能。目前市场上最小的芯片采用5纳米技术，台积电等厂商的下一个目标是将3nm芯片商业化。终端方面，苹果计划在新iPhone中使用采用EUV技术制造的芯片。

日经亚洲评论还指出，EUV光刻胶市场一直由日本厂商主导，JSR和Shin-EtsuChemical等日本公司控制着约90％的全球市场份额，新厂商的进入将加剧这一领域的竞争。（作者：爱集微 · 小山）