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EVG与Inkron共同开发高折射率材料

2020/4/6 16:06:01

EVG是一家为MEMS、纳米科技和半导体市场提供晶圆键合和光刻设备的著名厂商,Inkron(长濑集团)专注于高折射率和低折射率涂层材料。在EVG的NILPhotonics®技术处理中心,双方合作开发和生产高质量衍射光学组件(DOE)结构,为客户提供优化的制程技术和高折射材料。这些DOE结构用于扩增实境/混合实境/虚拟现实(AR/MR/VR)的波导器件,以及用作汽车电子、消费电子和其他应用的先进光学感测组件,如光束分离器和光束扩散器。

NILPhotonics技术处理中心为NIL供应链中的客户和合作伙伴提供一个开放式创新平台,目的是缩短创新的光子组件及其应用的开发周期和产品上市时间。作为该协议的一部分,Inkron为自己的研发机构购买了EVG 7200 NIL系统,以加速新光学材料的开发和验证。EVG 7200系统利用创新的SmartNIL®技术和材料经验,能够在大面积压印板上实现微米和纳米级结构(最小至30nm)的大规模生产。

EVG与Inkron共同开发高折射率材料.png

材料特性对已封装光学组件的整体效能及波形因素有着极大影响。举例来说,较高的折射率(RI≧1.9以上)可优化光萃取效能,进而显著提升光导管的可见视野,为AR/VR头罩提供更逼真的体验。高折材料还具有更高的光密度,使衍射光学更有效地用于分光系统,而脸部识别传感器等正好用到了分光系统;如此未来的光学组件就可变得更小。高折射材料的进一步优化可以改善薄膜透明度,并减少雾度和散射,从而提供更好的对比度。

优化的高折射率材料可确保NIL制程能顺利量产。NIL是制造光学元件的一种行之有效的方法,因为它能够在确保经济效益前提下,可批量提供纳米级特征图案,且不受限于特定的尺寸、形状和复杂性。此外,NIL系统构成了EVG公司WLO制造解决方案的关键部件,有助于大量新型光感器用于移动消费电子产品,包括3D感应、生物识别、虹膜扫描、光学指纹、红外线热成像、LiDAR(激光雷达) 、内窥镜相机、医学成像等。

EVG技术开发和IP总监Markus Wimplinger评论道,“商用和消费市场对晶圆级光学组件和传感器的需求正以惊人的速度增长,这导致了原材料及工艺必须得到优化;双方合作有助于EVG进一步探索和扩展NIL技术的应用和特性,为下一代光学组件和最终产品提供量产解决方案”。Inkron公司CEO Juha Rantala表示,“我们的纳米压印高折材料搭配填充涂层,再加上EVG领先的NIL系统,为光学制造商提供了关键的晶圆级解决方案,帮助他们快速提升新品的产量。”

EVG的NIL系统构成了该公司WLO制造解决方案的关键部件,这使得大量新的光感器可用于移动消费电子产品中。举例包括3D感应、飞行时间、结构光、生物识别、脸部识别、虹膜扫描、光学指纹、光谱感应、环境感应和红外线热成像。其他应用包括车用照明、光地毯、抬头显示器、车内感应和LiDAR(激光雷达),以及用于内窥镜相机,眼科应用和外科手术机器人的医学成像。EVG的WLO解决方案由该公司NILPhotonics技术处理中心提供。




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