来源：Yole Group

英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的分辨率和功能扩展，使英特尔代工厂能够继续超越英特尔 18A 的工艺领先地位。

高数值孔径 EUV 是 ASML 与英特尔数十年合作后开发的下一代光刻系统。 作为高数值孔径 EUV 的先行者，英特尔代工厂将能够在芯片制造方面提供前所未有的精度和可扩展性。这反过来将促使英特尔能够开发具有最具创新特性和功能的芯片——这些处理器对于推动人工智能和其他新兴技术的进步至关重要。

原文链接：

https://www.yolegroup.com/industry-news/intel-industrys-first-mover-on-high-na-euv-lithography-system/

【线上会议】

4月23日14:00，主题“纳米光学与微纳加工：推动AR/VR产业革新”。由世界领先高科技系统设备供应商牛津仪器领衔，舜宇奥来技术/光舟半导体/北京灵犀微光等多家企业共同参与，将通过超构光学元件/衍射光波导/晶圆级纳米光学等详解智能AR/VR热点内容。欢迎扫码报名！https://w.lwc.cn/s/bmyYRr

【线下苏州大会】

行业学习？资源对接？尽在5月22-23日苏州大会！“专业展览会+泛半导体产业论坛+独家权威访谈+展区特色活动”四位一体，带您解锁会议新玩法。

两日多论坛，国内外头部企业云集，产学研用深度融合。现扫码报名参会即可享早鸟优惠价，期待您的莅临！https://w.lwc.cn/s/Bf2iAb