全球芯片光刻技术领导厂商阿斯麦光刻 (ASML) 今日公布2018第二季财报。 ASML第二季营收净额 (net sales) 27.4亿欧元,净收入5.84亿欧元,毛利率 (gross margin) 为43.3%。 预估2018第三季营收净额 (net sales) 将落在27~28亿欧元之间,毛利率 (gross margin) 约为47%~48%。

ASML总裁暨首席执行官温彼得 (Peter Wennink) 表示 : 「第二季度销售额高于预期,极紫外光(EUV) 销售业绩表现强劲。 毛利率略高于预估,反映出深紫外光光刻 (DUV) 和应用业务的优势,以及EUV获利能力逐步提升。 」

「随着逻辑芯片客户即将在今年下半年开始投入下一技术节点的量产准备,ASML在第二季总共完成4台EUV系统的交货,比原本的预估多出1台。 我们在本年度已认列7台EUV系统营收,并将稳步达成全年交付20台EUV系统的目标。 现阶段的执行重点在于加速提升EUV系统的妥善率(availability)和生产力(productivity)。 这将为我们的EUV业务提供更强健的基础,有助于实现2019年至少出货30台EUV系统的计划。 」

在DUV业务方面,温彼得指出 :「今年内存芯片市场对于光刻系统的强劲需求推动我们DUV业务的成长,我们预估市场需求将从今年持续到2019年。 」

在上半年交出亮眼的财务表现,ASML持续看好下半年的营收成长和获利能力。

第二产品重点摘要

• 极紫外光(EUV)微影      : 在多台NXE:3400B系统上达成连续四周妥善率(availability)高于85%,并计划在2019年将妥善率提高到90%以上。

• 深紫外光 (DUV)微影      : 开始最新一代TWINSCAN NXT:2000i 的出货。 该产品具备多项硬件创新,能够和EUV系统一起用于7奈米和5奈米芯片的生产,在生产中的迭对精度(on-product      overlay)可达2.5奈米。

展望2018年第三季,ASML预估整体销售净额可达27~28亿欧元,毛利率约落在47%~48%之间。 研发投资金额提高到3.95亿欧元,而管销费用 (SG&A) 支出则约1.2亿欧元,目标年化税率约14%。