据日媒报道，卡尔蔡司子公司卡尔蔡司半导体制造技术公司（ZEISS SMT）宣布已开始在德国Wetzlar建设新的 DUV 光刻系统光学元件工厂，计划于2025年完成。

Wetzlar制造基地已有20多年生产DUV光刻设备制造光学元件的历史，由于现有工厂的产能已经达到极限，因此将建设新工厂来增加产量。新工厂的生产面积将超过12,000平方米，预计将创造150个新工作岗位。

ZEISS SMT的最大客户ASML表示，其订单大量积压的原因之一是光刻设备光学镜头的供应跟不上，因此对ZEISS SMT经营抱有很高的期望。

卡尔蔡司还宣布，到2026年底将投资超过2000万欧元扩建位于德国黑森州罗斯多夫的光掩膜研发中心。在同一基地，将增加一个300平方米的无尘室，以开发一个以纳米精度修复光掩模缺陷的系统。

GaN功率应用线上会议

4月13日下午14点，ACT雅时国际商讯&化合物半导体杂志联合推出“GaN功率应用，厚积薄发”线上研讨会，以期推动GaN功率应用产业的加速成长。报名从速：https://w.lwc.cn/s/nuIBBb

苏州会议

雅时国际(ACT International)将于2023年5月,在苏州组织举办主题为“2023-半导体先进技术创新发展和机遇大会”。会议包括两个专题：半导体制造与封装、化合物半导体先进技术及应用。分别以“CHIP China晶芯研讨会”和“化合物半导体先进技术及应用大会”两场论坛的形式同时进行。详情点击链接查看：https://w.lwc.cn/s/7jmaMn