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上海新阳:公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利

2022/5/23 17:21:44

来源:证券时报

上海新阳近日在业绩说明会上表示,公司光刻胶ArF、ArF-i研发进展顺利,已经形成两个系列试验产品,样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长,近期不会有销售的发生,但是产品总体技术的指标还都比较不错,我们现在对这方面也比较有信心。此外,公司2021年完成了几款KrF光刻胶产品的研发、验证并实现销售,在手订单中含有国内主流头部芯片制造公司等大小客户,覆盖铝线制程和铜线制程,用于逻辑、模拟等芯片的生产制造。

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