1月19日，ASML公布2021年财报：2021年总营收186亿欧元（约合人民币1339亿元），同比增长33%；净利润为59亿欧元（约合人民币425亿元），同比增长66%；毛利率为53%，比上年同期提高4%。

ASML的CEO温彼得表示，其中63亿欧元营业额来自42套EUV系统（极紫外光刻机）订单，比上年多11套。

去年Q4，ASML实现营收50亿欧元，毛利率达到54.2%，净利润18亿欧元；新增订单金额71亿欧元。期内，该公司共出货82台光刻系统，环比上季度增加3台；其中EUV光刻系统11台，比上个季度减少4台；在所有出货中，73%光刻机被用于逻辑工艺制造，27%的光刻机用于存储芯片生产。

图片来源：ASML的4Q21财报

从出货地来看，中国台湾依然是ASML的最大市场，四季度有51%的光刻系统发往当地，环比提升5%；韩国是该公司第二大市场，同期有27%的光刻系统发往当地，环比下降6%；中国大陆是ASML第三大市场，四季度有22%的光刻系统向当地出货，占比提升12%。3Q21美国和日本分别在ASML出货中占比10%和1%，但四季度占比均意外降为0，具体原因尚不清楚。

图片来源：ASML光刻机出货信息

过去几年，ASML一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机。这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍。与目前的0.33 NA EUV光刻机相比，0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期。当然，0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵，每台售价约为3亿美元（约合人民币19亿元），比0.33 NA光刻机售价高出一倍。

目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE：5000还在研发过程中，预计2023年上市。早在2018年，英特尔就率先向ASML下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个高数值孔径EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程。

ASML透露，4Q21收到一份TWINSCAN EXE：5000光刻机订单，累计订单达到5份。与此同时在今年年初收到来自Intel的TWINSCAN EXE:5200光刻机首份订单。TWINSCAN EXE: 5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产。

图片来源：ASML

展望2022年，ASML预计一季度销售收入约为33~35亿欧元，环比下滑30%-34%。温彼得对此解释称，由于大量的快速出货，约有20亿欧元的预期收入将从第一季度转移到后续季度，这也是该公司一季度预期销售额较低的原因。纵观全年，即使考虑到目前6个EUV系统的快速出货相关收入将转移至2023年，该公司2022年的营收增长仍将达20%左右。

但这个说法遭到中国台湾半导体分析师陆行之的质疑：既然是快速出货，理论上应该也是快速或准时付款。他进一步解释道，4Q21 ASML存储器芯片用光刻机营收占比环比下滑12%，同期确认收入的EUV也低于原预期，或许是韩国三星、海力士因为DRAM（动态随机存储器）合约价格下滑，要求延迟付EUV的款项给ASML。