日前，东进半导体宣布，近期通过了三星电子的EUV PR（光刻胶）可靠性测试。EUV光刻工艺需要EUV光刻机和EUV光刻胶，目前这一市场也主要被日本厂商垄断，而三星与韩国半导体厂商东进合作开发成功EUV光刻胶，打破了垄断。EUV光刻胶属于比较高端的光刻胶产品，其主要应用于较为先进的芯片制造过程中，比如制造7nm以下节点的芯片。

东进半导体在其位于京畿道华城的工厂开发了EUV PR，并在三星电子华城 EUV生产线上对其进行了测试，并已通过可靠性测试。光刻胶是半导体曝光工艺中的关键材料。它应用于芯片上，当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。

现状：据公开数据显示，日本JSR、东京应化、信越化学以及富士胶片占据了全球70%以上的市场份额，而在高端光刻胶领域，日企更是处于绝对垄断的地位。

不只是光刻胶产品，在芯片生产所需的19种必要的半导体材料中，日企有14种材料处于绝对的领先优势。