日前，南大光电在接受调研时表示，目前，公司研发的 ArF 光刻胶已经通过两家客户的认证，分别是一家存储芯片企业和一家逻辑芯片企业。

公司也正在聚焦国内最主要的客户进行认证，每个客户都有三四款胶在做认证。光刻胶的认证一般需要一年以上的时间，经历四轮以上的送样，目前这些光刻胶的认证正在顺利推进。

南大光电还表示，公司目前已经建成两条ArF 光刻胶生产线，具备25吨的产能，同时也有进一步储备产能的计划，目前计划产能扩到 50 吨。

南大光电专注193nm光刻胶的研发和产业化，目标是打造从原材料到光刻胶成品的完整的光刻胶产业链。

在光刻胶原材料方面，南大光电具备合成单体的能力，部分单体国内已有产业化，对于一些特殊的、高技术含量的关键单体，则由公司自己设计、合成制备，可以说，制备光刻胶的单体都已经实现了本土化。

南大光电主要产品的订单基本饱和

除此之外，南大光电主要产品的订单基本饱和。MO 源苏州工厂主要通过技术革新改造来提升产能；全椒半导体工厂布局的 MO 源 2.0 项目正在顺利推进，部分产品进入客户认证阶段；

高纯 ALD/CVD 产品（前驱体）通过扩产和开发新产品满足市场需求；全椒氢类电子特气的扩产正在进行“三同时”手续办理；飞源气体含氟电子特气生产基地通过技术改造和产能扩大，已建成 3800 吨/年的三氟化氮和 3500 吨/年的六氟化硫生产线。