因为前沿设备的不断增加，EUV和KrF光刻用材料市场将在2025年之前保持增长。

TECHCET-电子材料咨询公司(提供商业和技术信息)宣布，2021年，光刻胶的收入预计将增长6%以上，达到19.8亿美元，到2025年将继续增长到23.7亿美元。由于芯片的高需求和低供应，市场动态将继续推动光刻胶材料收入上升。

• EUV

o 2021年将增长90%至5100万美元

o 销量几乎翻了一番，从2020年的18千升增至2021年的35千升。

o 2020-2025年收入的年复合增长率为53%

o 由前沿逻辑和DRAM <5nm驱动

• 3D NAND驱动的 KrF

o 2021年营收和销量将增长至12%

• i 线和 g 线:

o 2021年增长2%-3%

随着3D NAND和逻辑生产的扩大，未来3-5年，光刻胶稀释剂和EBR（Edge bead removal）的使用也将增加，EBR严重依赖丙二醇甲基醚醋酸酯(PGMEA)，主要的溶剂。

值得关注的技术趋势:

• EUV光刻技术已经在台积电(TSMC)和三星(Samsung)逻辑晶圆厂大批量生产(HVM)。英特尔预计将于2021年开始生产EUV，这将推动EUV辅助设备和光刻胶的产量。

•三星电子(Samsung Electronics)正计划使用EUV光刻技术大规模生产D1z工艺DRAM。

•3D NAND设备销售增长和节点变化，创造更多级别的曝光，将推动KrF光刻胶使用的增加，特别是更厚的配方，在2022-2025年KrF光刻胶使用增长约在20%的范围内。

•定向自组装(DSA)已经证明了良好的结果；较低的缺陷并适用于光刻图案修复。这项技术正在取得的进步预示着它将来将适用于大规模芯片制造。

•纳米压印(Canon)已显示出改进缺陷和套刻对准的能力，并正在进行用于3D NAND存储器生产产量测试。

关于关键材料和市场的更多信息，请访问：https://techcet.com/product/photoresists-and-photoresist-ancillaries/