据《联播无锡》消息显示，无锡SK海力士二工厂将于4月18日迎来竣工投产。报道称，SK海力士二工厂项目2017年6月正式开工，将于本18日正式举行竣工仪式，总投资86亿美元。竣工后主要用于生产先进的10nm级DRAM技术，预估每月可生产18万片12英寸Wafer。

据悉，SK海力士与无锡已有15年的合作，一直在无锡重点推进半导体前道工序和后道工序相关事业，接下来将与江苏省包括无锡市及高新区全面战略合作。

SK海力士早在2016年底就计划加码投资无锡DRAM晶圆厂，从2017年7月到2019年4月总投资9500亿韩元，以保持生产竞争力。2018年，SK海力士开始推进将韩国总部的8英寸系统芯片项目迁到无锡，随后还决定把中国销售总部迁至无锡，接下来SK海力士还将在无锡建设学校项目和医院项目。

据悉，SK海力士在无锡的工厂分为一期和二期，SK海力士二期工厂项目投资86亿美元，2017年6月正式开工，2018年底完成清洁室的安装，预计本月竣工后将全面进入量产阶段。

SK海力士主要在韩国利川和中国无锡工厂生产DRAM，除了扩建的无锡二期工厂，SK海力士还正在新建M16工厂，这是在利川新建M14工厂之后的第三座Fab工厂，也可能将用于生产DRAM，或者跟M14一样是NAND Flash和DRAM的混合工厂。 

来源：中国闪存市场