-展示如何降低晶圆厂的拥有成本

2019年2月27日电 /美通社/ --  QuantumClean和ChemTrace将会展示其超高纯度腔室工具零部件清洗、自主研发涂层与微污染分析测试如何能够帮助降低晶圆厂和原始设备制造商(OEM)的拥有成本(CoO)。3月20日至22日，SEMICON China 2019（2019国际半导体设备、材料、制造和服务展览暨研讨会）将在上海新国际博览中心举行，在这一展会的展览时间里，我们的3340展位将会展示这方面的CoO解决方案。

我们将会举行一系列展示会，让整合元件制造商(IDM)、原始设备制造商、原始配件制造商(OPM)和代工厂了解他们如何能够借助QuantumClean的超高纯度清洗与ChemTrace的Parts Quality Monitoring（零部件质量监控）客户解决方案，来降低原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)、扩散、蚀刻、离子注入和物理气相沉积(PVD)等领域的拥有成本。我们的展位工作人员将会讨论如何更快地开始打造更加清洁的腔室，更快的零部件周转时间如何能够减少库存，更长的平均清洁间隔时间(MTBC)如何能够提升生产效率和降低项目管理(PM)成本，以及侵入性不是那么强的清洗方法和再涂层技术如何帮助延长零部件寿命。

Quantum Global Technologies, LLC总裁斯科特-尼古拉斯(Scott Nicholas)对此解释说：“SEMICON China访客能够在我们的展位上见到我们的解决方案专家，了解我们所提供的与众不同的服务如何能够通过解决至关重要的半导体工艺腔室零部件相关制造挑战，来帮助改进他们的运营。”

Quantum Global Technologies, LLC销售总监苏利安尼-拉塞尔(Surjany Russell)则表示：“ChemTrace根据严格的质量保证标准运行，并获得了ISO 17025:2005的独立认证。26年来我们一直都在为半导体工艺相关的腔室零部件、晶圆、洁净室材料、超纯水、高纯度和复杂化学品进行卓越的微污染分析。”

来到QuantumClean/ChemTrace展位的访客将会收到一份赠品。

关于我们

QuantumClean^®和ChemTrace^®均为Ultra Clean Technology下属的半导体服务业务部门。

在为半导体晶圆工厂、原始设备制造商和原始配件制造商行业提供超高纯度10纳米以下外包制程工艺工具腔室零部件清洗与涂层服务、工具零部件寿命延长和制程工艺工具零部件优化解决方案方面，QuantumClean目前是全球领导者。依托位于8个国家的18家先进技术清洁中心(Advanced Technology Cleaning Centers^®)和1600名员工，QuantumClean在全球范围内提供无与伦比的清洁能力和便捷服务。网站：quantumclean.com。

26年来，ChemTrace一直在制程工艺工具腔室零部件清洁效率方面提供独立的分析验证服务。ChemTrace在工艺工具零部件、晶圆与沉积、化学品、洁净室材料、去离子水和空气分子污染方面，提供无与伦比的微污染分析服务。访问chemtrace.com可以了解Advanced Accredited ChemTrace Laboratories（高级认证ChemTrace实验室，AACL™）能够为客户开展的工作。