BusinessNews
  • 首页
  • 英文版
  • 电子读物
    • 期刊
    • 焦点
  • 晶芯研讨会
  • 白皮书
  • 人才对接
  • 采购供需
  • 多媒体
    • 视频
    • 图集
  • 媒体信息
    • 投稿指南
    • 2025年媒体信息
  • 关于我们
    • 联系我们
    • 加入我们
  • 捷径:
  • 新闻动态
  • 采访报道
  • 制造与封装
  • 设计与应用
  • 设备与材料
  • 产业与市场
  • 产品特写
  • 展会与活动

当前位置:

     首页 > 新闻资讯  > 制造与封装

先进封装极大地推动了内存封装行业的增长和创新

2023/4/26 15:29:37

来源:Yole

先进封装已成为NAND和DRAM技术进步的关键推动力。

内容概览:

• 存储器封装整体收益预计将以 13% 的 CAGR22-28 增长,至 2028 年可达 318 亿美元。

• AP1 已成为 NAND2 和 DRAM3 实现技术进步的关键驱动力。

• DRAM将以13%左右的CAGR22-28增长,2028年将达到207亿美元左右,而NAND的增长速度将会更快,

CAGR22-28为17%左右,预计其封装收入于2028年将高达 89 亿美元。

• 引线键合在存储器封装市场中占主导地位,其次是倒装芯片。

• OSAT 厂商在存储器封装收益中占比超过三分之一。

近日,2022 年存储器封装总收益预计为 151 亿美元,其中不包括测试。这相当于独立存 储器总收益的 10% 左右,独立存储器 2022 年的总收益约为 1440 亿美元。Yole Group旗下的 Yole Intelligence 预计,该市场将以 13% 的 CAGR22-28 增长,至 2028 年收益将达到 318 亿美元。

在 Yole Intelligence 半导体与软件部门的高级技术与市场分析师 Thibault Grossi 看来:“在封装收益方面,DRAM 将以 13% 左右的 CAGR22-28 增长,而 NAND 的增速会更快,CAGR22-28 为 17%。其他存储 器技术预计将以约 3% 的 CAGR22-28 增长,如 NOR4 闪存、EEPROM5、 SRAM6,以及正在兴起的 NVM7。”

AP 已成为 NAND 和 DRAM 实现技术进步的关键驱动力。在各种不同的 AP 方法中,对于制造位密度更高、性能更高的存储器件,混合键合已成 为前景最好的解决方案。

无论是为了实现更高的性能还是更小的外形尺寸,使用先进封装在存储器价值算式中的重要性正在日益凸显。AP 在存储器封装收益中所占的比例将从 2022 年的 47% 左右增长到 2028 年的 77%。

image.png

在此背景下,Yole Intelligence 发布了一项新产品:《Memory Packaging 2023 report》。作为 Yole Group 旗下的子公司,Yole Intelligence 在这份研究报告中对半导体存储器市场进行了全面介绍,为您带来对存储器封 装技术与市场的理解,以及对存储器封装市场的预测。这份报告还介绍了存储器封装产业状况,并对竞争格局做了 细致描述和分析。

其中占主导地位的封装方法是引线键合,它广泛应用于移动设备内存和存储应用,其次是倒装芯片封装,这类技术 正在 DRAM 市场中持续拓展。

采用互连线短的倒装芯片封装对于实现较高的每针(pin)带宽至关重要。尽管引线键合封装或许仍能满足 DDR85 的性能要求,分析师们预期倒装芯片封装将成为 DDR6 的必不可少的配置。 引线框架仍然广泛用于 NOR 闪存和其他存储器技术,是单位出货量最高的封装。 WLCSP9 正越来越多地在要求小尺寸的消费/可穿戴应用中得到采用,如真无线立体声耳塞。它用于低密度存储器 件中,如 NOR 闪存、EEPROM和 SLC NAND。

对 Yole Intelligence 存储器业务的高级技术与市场分析师 Simone Bertolazzi 博士 而言:“AP 在存储器业务中的重要性日益增加,其中倒 装芯片封装正在成为数据中心和个人电脑中 DRAM 模块的常态技术。在 AI10 和高性能计算应用的助推下,对 HBM 11的需求增长迅猛。混合键合是 3D NAND 规模化道路上的一环。

image.png

苏州会议

雅时国际(ACT International)将于2023年5月,在苏州组织举办主题为“2023-半导体先进技术创新发展和机遇大会”。会议包括两个专题:半导体制造与封装、化合物半导体先进技术及应用。分别以“CHIP China晶芯研讨会”和“化合物半导体先进技术及应用大会”两场论坛的形式同时进行。详情点击链接查看:https://w.lwc.cn/s/7jmaMn 



声明:本网站部分文章转载自网络,转发仅为更大范围传播。 转载文章版权归原作者所有,如有异议,请联系我们修改或删除。联系邮箱:viviz@actintl.com.hk, 电话:0755-25988573

上一篇:开始使用 Power Stage Designer 的 13 个理由

下一篇:线边缘粗糙度(LER)如何影响先进节点上半导体的性能 与泛林一同探索先进节点上线边缘粗糙度控制的重要性

相关资讯

              暂无相关的数据...

本期内容

2025年 6/7 月

订阅期刊

过刊查询

efocus

赞助商

友情链接
回到顶部

Copyright© 2025:《半导体芯科技》; All Rights Reserved.      粤公网安备 44030402004707号   粤ICP备12025165号-7     服务条款     隐私声明