盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机
2022/12/29 15:40:58
来源：盛美上海
近日盛美上海首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备，该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货，这是该公司提升其在涂胶和显影领域内专业技术的重要一步。
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