2020年6月29日上午，上海积塔半导体有限公司和沈阳拓荆科技有限公司共同相约在上海嘉里城大酒店举行战略合作签约仪式。双方商定就发挥各自优势，共同推进集成电路产业链协同创新，加速我国集成电路装备国产化进程，达成战略合作。积塔半导体首席执行官洪沨博士与拓荆科技总经理吕光泉博士作为双方代表进行了签约。

积塔半导体洪沨博士首先高度赞赏拓荆创始团队的创业精神，并说道：“现在的拓荆拥有一大批经验丰富的技术专家，结合优秀的国内人才，坚实的团队基础是拓荆能做越做越好的重要原因，也使得积塔对双方未来的合作充满了信心。国产设备发展是很辛苦的，积塔愿意与拓荆共同努力，尤其在先进膜的开发方面，共同提升可靠性、效率，把握可持续发展的关口，一起做得更好。”

拓荆公司总经理吕光泉博士的发言充满了责任和期待。吕博士首先感谢积塔半导体对于公司的信任与支持，并介绍了公司在客户的大力支持下取得的进展。对于未来的合作，吕博士表示“拓荆已经为合作做好了技术及人才准备，将用最好的技术、最好的服务、最好的态度，全面推进与积塔的战略合作。”

国内半导体产业机遇与挑战并存，更需要产业链上下游企业携手并肩、精诚合作，共同抓住机遇，迎接挑战，通过不断深化的战略协作，共同提升中国半导体产业竞争力。