白皮书
Park希望通过这本AFM用户手册可以帮助研究人员更好地制备样品并获得助力大家科学研究的高清AFM成果。
本手册根据Park原子力显微镜工程师们和研究员们的AFM 样品测量经验杜撰而成，并在手册中对常用样品和测量环境进行了提及。
如果您所用的样品没有在此手册中被提及，或者您想要了解更多关于样品制备的相关信息，请联系Park应用组咨询 (marcom@parksystems.com)。
颗粒测量是对样品中的颗粒进行计数和筛分的过程，可对空气或液体进行测量。此技术在半导体晶圆制造等 工业制程工艺中非常重要，流体的高纯度是其中的一项要求，如果存在颗粒污染物，则会导致产品报废或系 统损坏。
目前的检测技术包括破坏性检测和无损检测。 破坏性检测只能对每个部件的样品进行测试，并最终破坏零件。 无损检测可检测每一个部件，包括光学检测和电气试验等选项。 光学检测和电气试验虽然有帮助，但对于预防和减轻电子产品故障所需的全面检测，它们还不够。 如今有许多可用的新一代方法，如微纳米聚焦X射线解决方案，可提供全面的电子产品质量检测解决方案，同时可确保IPC 1、2或3类的符合性以及按照FFR指南进行制造。 因此，制造商可确保零件中没有限制功能的空隙、异物和缺陷，并在关键接合点（如焊点）进行高精度检测，以全方位验证零件完整性和符合要求的电气性能，同时最大限度地提高生产良率。
仅依赖光学检测和电气试验会给公共安全、生产利润、品牌声誉和法规符合性带来不必要的风险。 目前光学检测和电气试验不足以作完整检测技术使用。 采用微米聚焦和纳米聚焦X射线解决方案有助于电子产品制造商确保安全，实现法规符合性，并在电子产品、半导体和电池的生产中创建可持续提高质量的商业模式。这些新的检测解决方案是未来趋势，可帮助我们确保随着电子产品的使用和成熟，不断提高安全性，让用户放心使用。
